成都晶普科技有限公司

设为首页　收藏本站

查看产品

产品名称：3米光栅复制光刻机

主要技术指标：

曝光面积：

分辨力：5μm

对准精度：

最大胶厚：

掩模尺寸:

样片尺寸：

照明均匀性：

汞灯功率：

掩模相对于样片运动行程：>3300mm

技术特点：

该机在母尺和工件间抽真空，采用蝇眼透镜的i线均匀照明系统，结合气浮工件台一维运动而实现大行程的扫描、真空接触、i线曝光。其照明均匀性±2%，光刻分辨力优于5微米，照明面功率密度50mW/㎝2，照明面积28㎜×32㎜；工件台匀速扫描行程大于3300㎜，且扫描速度可在1㎜-30㎜/s范围任意调整与设定；整机实现计算机控制管理，液晶显示，中文界面，操作简便。该机衍射效应平滑、均匀照明、光源准直、真空接触、整机集成等颇具创意，具有精度高、可靠性好、自动、高效等特点，可广泛应用于高精度长光栅等长尺寸器件微细加工与生产。

关于我们产品展示服务支持最新资讯客户案例访客留言

本公司长期代理中国科学院光电技术研究所的光刻机   地址：成都高新区天辉中街56号1栋8层
   蜀ICP备17015248号-1      ©版权所有：成都晶普科技有限公司
联系方式：电话：028-85101784 联系人：龚健文  TEL:13541355104 E-mail:gongjw@ioe.ac.cn.
联系方式：电话：028-85100564 联系人：胡松    TEL:13981738959 E-mail:husong@ioe.ac.cn.