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产品名称：膜厚仪

主要技术指标：

测量范围（VIS）：15nm—100μm

测量重复性（RMS）：0.086nm

测量绝对精度（与椭偏仪对比）：0.25nm

测量层数：大于3层

使用光源：卤素灯；

入射角度：90°

测试材料：透明或半透明薄膜材料；

光斑尺寸：20μm—3mm（可选）

测量时间：100ms—4ms；

通信接口：USB2.0

产品特点：

采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；
可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。

测试数据：

设备组成：

测试主机、光纤、校正件、测量头、夹持装置、设备箱、手提电脑。

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